Konzeptionelle Planung für eine mögliche Errichtung eines Erweiterungs-Neubaus für die Herstellung von Halbleiterlasern an einem neuen Standort in Berlin.
In dieser geplanten neuen Fertigungsstätte sollen Wafer und Halbleiterlaser in unterschiedlichen Produktionsschritten in Reinräumen der Klasse ISO 5 und 6 unter strengen Reinheitsanforderungen hergestellt werden. Diese Wafer werden strukturiert und an Kunden versandt oder zu Hochleistungsdioden für Lasergeräte weiterverarbeitet.